Rapò teknik sou yon sèl -poud nanotib kabòn ki gen miray ranpa (SWCNT).

1. Apèsi sou pwodwi & Enfòmasyon debaz

Non pwodwi: Segondè-Purite Single-Walled Carbon Nanotube Powder

Estrikti chimik: Estrikti tubulaires san pwoblèm ki fòme pa woule yon sèl kouch grafèn

Fòm Fizik: Poud nwa a gri fonse ultra-

Estanda Pwodiksyon: Konfòme ak ISO/TS 80004-13 Creole Nanomaterial Creole

Konsistans pakèt: Devyasyon dyamèt mwens pase oswa egal a ± 8%, devyasyon longè mwens pase oswa egal a ± 12%

2. Paramèt estriktirèl & Espesifikasyon

Dyamèt Range: 0.8-2.0 nm (Distribisyon Custom dyamèt ki disponib)

Longè Mwayèn: 5-30 μm (Disponib nan espesifikasyon tib kout, mwayen ak long)

Kontwòl chiralite: Semiconductor-kalite kontni ki pi gran pase oswa egal a 70% (pwodwi ki anrichi-chirality ki disponib)

Estrikti Bundle: Mwayèn 5-10 tib endividyèl pou chak pake, dyamèt pake 5-15 nm

Zòn Sifas Espesifik: 600-1300 m²/g (metòd BET)

3. Pite & Enpurte Kontwòl

Kabòn pite: >98% (Standard Grade), >99.5% (Gwo-Klas pite)

Rezid metal: <2 wt% (Fe, Co, Ni catalyst residues)

Kabòn amorphe: <3% (Measured by TPO-Temperature Programmed Oxidation)

Sann kontni: <1% (Measured at 900°C in air)

Gwoup Fonksyonèl Sifas: Pristine state C/O atomic ratio >30, Carboxylated / Hydroxylated pwodwi fonksyonalize ki disponib

4. Paramèt pèfòmans kle

4.1 Pwopriyete elektrik

Entrinsèk konduktivite:

Metalik: 10⁴-10⁵ S/cm (mesi endividyèl tib)

Semiconducting: 10²-10³ S/cm (mesi endividyèl tib)

Makroskopik pèfòmans elektrik:

Poud granules résistivité: 0.1-1.0 Ω·cm

Rezistans fèy fim mens: 100-500 Ω / sq (nan 90% transmisyon)

Papòt pèrkolasyon: 0.01-0.05% wt (nan matris polymère)

Jaden-efè mobilite: 10,000-50,000 cm²/V·s (Semiconductor tranzistò fim mens)

4.2 Pwopriyete tèmik

Axial konduktiviti tèmik: 3000-3500 W/m·K (teyorik)

Radial konduktiviti tèmik: 20-30 W/m·K

Estabilite tèmik:

Anviwònman lè: aparisyon oksidasyon 450-550 degre

Inert atmosphere: Structure stable >1500 degre

Koefisyan ekspansyon tèmik: Axial -1.5×10⁻⁶ K⁻¹

4.3 Pwopriyete mekanik

Fòs rupture: 50-200 GPa (teyorik)

Modil elastik: 1.0-1.2 TPa

Allongement nan Break: 15-25%

Fatig Lavi: >10⁹ sik koube (5 μm reyon koube)

5. Solisyon dispèsyon & pèfòmans aplikasyon

5.1 Teknoloji Dispèsyon

Metòd Dispèsyon Fizik:

Ultrasonication: Rekòmande pouvwa 500-1000 W, tan 30-60 minit

Omojenizasyon segondè -presyon: Presyon ki pi gran pase oswa egal a 1000 bar, 3-5 sik

Boul fraisage: mouye fraisage, vitès wotasyon 200-400 rpm

Sistèm Dispèsyon Chimik:

Sistèm akeuz: SDBS, SDS surfactants, konsantrasyon 0.5-1.0% wt

Sistèm òganik: NMP, solvang DMF, konsantrasyon dispèsyon 2-5 mg / mL

Polymère fonn: Twin -ekstrusyon vis, tanperati optimal 200-300 degre

Seri pwodwi fonksyonalize:

Carboxylation: -COOH kontni 1-5 nan%

Aminasyon: -kontni NH₂ 0.5-2 at%

Fliyò: kontni F 3-10 nan%

PEG-grèf: Pwa molekilè 2000-5000 Da

5.2 Done pèfòmans materyèl konpoze

Polymer Composites (0.5 wt% loading):

Amelyorasyon konduktivite: 10⁶-10⁸ fwa

Ogmantasyon konduktiviti tèmik: 200-300%

Ogmantasyon fòs rupture: 30-50%

Tanperati tranzisyon an vè: Ogmante pa 15-25 degre

Sistèm résine epoksidik (1.0 wt% chaj):

Volim rezistans: 10³-10⁴ Ω·cm

Tèmik konduktiviti: 1.2-1.5 W/m·K

Flexural modil: Ogmante pa 40-60%

5.3 Paramèt preparasyon fim mens

Fim filtraj vakyòm:

Epesè: Kontwole 50-200 nm

Rezistans fèy: 50-200 Ω/sq

Transmisyon limyè: 85-95% (550 nm longèdonn)

Fleksibilite: Pa gen ka zo kase nan reyon koube<1 mm

Flite-Fim kouvwi:

Inifòmite epesè: ± 10%

Adhesion: 5B Rating (ASTM D3359)

Inifòmite rezistans fèy: ± 15%

6. Sistèm Kontwòl Kalite

6.1 Estanda materyèl bwit yo

Pite précurseur katalis: Pi gran pase oswa egal a 99.9%

Pite sous kabòn: Pi gran pase oswa egal a 99.99%

Pite gaz reyaksyon: Pi gran pase oswa egal a 99.999%

Pite gaz transpòtè: Pi gran pase oswa egal a 99.999%

6.2 Siveyans nan-pwosesis

Paramèt Siveyans an tan reyèl-:

Tanperati reyaksyon: 750-950 degre, presizyon kontwòl ± 2 degre

Pousantaj gaz koule: Presizyon ± 1%

Kontwòl presyon: Presizyon ± 0.5%

Pwen Kontwòl Kalite Pwosesis:

Preparasyon katalis: distribisyon gwosè patikil (metòd DLS)

Reyaksyon CVD: Siveyans Raman sou entènèt nan bon jan kalite kwasans

Pwosesis koleksyon: kontni oksijèn nan gaz pwoteksyon<1 ppm

6.3 Tès pwodwi fini

Karakterizasyon estriktirèl:

TEM: Distribisyon dyamèt, entegrite miray tib

SEM: Distribisyon longè, obsèvasyon mòfoloji

Raman spèktroskopi: rapò D/G<0.1, RBM peak analysis

XRD: Estrikti kristal, degre grafitizasyon

Analiz Konpozisyon:

XPS: Eta chimik sifas, analiz gwoup fonksyonèl

TGA: Detèminasyon pite, estabilite tèmik

ICP-MS: Kontni enpurte metal

EA: C, H, O, N analiz elemantè

Tès pèfòmans:

Kat-sonde pwen: Kondiktivite elektrik

Disk cho: konduktiviti tèmik

UV-Vis-NIR: Pwopriyete optik

AFM: Pwopriyete mekanik

7. Kapasite Faktori & Asirans Pwovizyon pou

7.1 Kapasite Kontwòl Kalite

Envestisman Ekipman Tès:

Segondè -rezolisyon TEM: 2 inite, rezolisyon 0.1 nm

Jaden emisyon SEM: 3 inite, rezolisyon 1.0 nm

Espektromèt Raman: 4 inite, ekipe ak lazè 532/633/785 nm

Spectroskopi foto-elektron X-: 1 inite, sous monokromatik Al K

Akreditasyon laboratwa:

CNAS-laboratwa akredite: 50 atik tès yo

ISO/IEC 17025: Sistèm jesyon kalite sètifye

7.2 Kapasite R&D

Ekip R&D:

Ph.D. pousantaj: 45%

Eksperyans endistri mwayèn: 8 ane

Orijin pwofesyonèl: Syans Materyèl, Jeni Chimik, Fizik

Reyalizasyon R&D:

Patant envansyon: 38 (akòde)

Patant modèl sèvis piblik: 25

Rezo kolaborasyon:

Patenarya inivèsite: 12 enstitisyon ki gen ladan Tsinghua University, Peking University, CAS

Patenarya antrepriz: Plis pase 30 konpayi ki gen ladan CATL, BYD, Huawei

Kolaborasyon entènasyonal: 8 pwojè ak patnè nan USA, Almay, Japon

8. Anbalaj & Sèvis Lojistik

8.1 Espesifikasyon anbalaj estanda

R&D Anbalaj Klas:

100mg: flakon vè, pwoteksyon agon

500mg: sache papye aliminyòm, anbalaj vakyòm

1g: Anbalaj doub -kouch, pwoteksyon desiccant

Pwodiksyon klas anbalaj:

10g: bwat aliminyòm, azòt-plen sele

50g: bwat asye pur, anbalaj vakyòm

100g/500g: Anbalaj koutim, imidite-prèv ak anti-estatik

8.2 Kondisyon espesyal pou anbalaj

Pwoteksyon gaz inaktif:

Kontni oksijèn:<10 ppm

Kontni imidite:<1 ppm

Entegrite sele: Tès koule elyòm<10⁻⁸ Pa·m³/s

Tanperati -anbalaj kontwole:

Anbalaj nan frijidè: transpò 2-8 degre

Anbalaj friz -: -20 degre transpò

Siveyans tan reyèl-: Tanperati ki anrejistre pandan tout transpò

9. Sèvis sipò teknik

9.1 Sipò teknik pre-lavant

Konsiltasyon aplikasyon:

Rekòmandasyon seleksyon materyèl

Gid konsepsyon fòmilasyon

Optimizasyon paramèt pwosesis

Egzanp Tès:

Echantiyon gratis: echantiyon esè 50mg ki disponib

Tès pèfòmans: Rapò tès yo bay nan 3-5 jou travay

Validasyon aplikasyon: Asistans ak tès preliminè aplikasyon an

9.2 Konsèy teknik pandan lavant yo

Fòmasyon Pwosesis:

Fòmasyon teknoloji dispersion

Fòmasyon preparasyon materyèl konpoze

Kontwòl kalite pwen kle fòmasyon

Sou-sipò sou sit la:

Enjenyè sou-sou sit gid

Asistans debogaj ekipman

Optimizasyon paramèt pwosesis

9.3 Sèvis teknik apre-lavant

Rezolisyon pwoblèm:

24 èdtan repons teknik

Solisyon yo bay nan 7 jou

Sou-sipò teknik sou sit la lè sa nesesè

Amelyorasyon kontinyèl:

Suivi regilye-

Suivi pèfòmans

Sijesyon optimize fòmilasyon

10. Angajman dirabilite

10.1 Pwoteksyon Anviwònman

Pwosesis Pwodiksyon:

Tretman dlo ize: Satisfè estanda egzeyat prensipal yo

Exhaust gas treatment: Catalyst recovery rate >95%

Solid waste: Resource utilization rate >90%

Pwodiksyon pwòp:

Konsomasyon enèji: 30% pi ba pase mwayèn endistri

Material recycling: Solvent recovery rate >85%

Pwosesis vèt: Devlopman teknoloji dispèsyon ki baze sou dlo-

10.2 Asirans Kalite

Angajman Kalite:

Pousantaj kalifikasyon pwodwi: 100%

Batch consistency: >95%

Trasabilite bon jan kalite: Trasabilite konplè-pwosesis

Apre{0}}lavant sèvis:

Peryòd garanti: 12 mwa

Retounen/Echanj politik: San kondisyon pou pwoblèm kalite

Repons plent: Repons nan lespas 24 èdtan

Kòm yon manifakti espesyalize nan yon sèl-nanotub kabòn ki gen miray ranpa, nou posede kapasite konplè chèn endistriyèl soti nan R&D rive nan pwodiksyon an. Atravè inovasyon teknolojik kontinyèl ak kontwòl kalite strik, nou bay kliyan pwodwi SWCNT segondè -pèfòmans, segondè-estabilite. Nou pran angajman pou nou tabli-patenarya estratejik alontèm ak kliyan pou avanse ansanm aplikasyon nan nanomateryèl nan divès domèn.

Avantaj konpetitif manifakti a:

Teknoloji debaz pwopriyetè, metrize konplè-pwosesis soti nan preparasyon katalis rive nan pirifikasyon

Kapasite pwodiksyon évolutive, satisfè bezwen soti nan R&D rive nan pwodiksyon endistriyèl-echèl

Kontwòl kalite sevè ki asire konsistans ak estabilite pakèt-a-

Sistèm sipò teknik konplè ki bay solisyon konplè-

Bonjan kapasite R&D ki pèmèt devlopman koutim nan pwodwi espesyalize

Nou gade pou pi devan pou kolabore ak kliyan atravè endistri yo eksplore nouvo fwontyè nan aplikasyon nanomateryèl.

Baj popilè: sèl -poud nanotub kabòn ki gen miray ranpa, Lachin sèl-poud kabòn nanotib ki gen miray ranpa manifaktirè, founisè, faktori